SPECTRO ARCOS

Il nuovo ICP ottico SPECTRO ARCOS eccelle in applicazioni industriali e accademiche per le più avanzate analisi elementari, dei prodotti chimici, petrolchimici ed altri materiali.

La sua nuova ed unica interfaccia del plasma MultiView fornisce realmente e senza compromessi la vista assiale e radiale del plasma in un unico strumento. Il meccanismo MultiView permette all’operatore di “trasformare” letteralmente uno strumento con vista radiale in un dispositivo con vista assiale, o viceversa, in circa 90 secondi.

La potenza del plasma entra in una nuova era con un sistema innovativo di gestione del generatore. Questo componente unico, compatto ed estremamente robusto basa il suo funzionamento sulla diffusa tecnologia “metal oxide semiconductor (LDMOS)”. Garantisce la potenza del plasma più alta oggi disponibile, permettendo di raggiungere prestazioni analitiche precedentemente impossibili anche a massimi carichi di lavoro del plasma.

Il design di SPECTRO ARCOS assicura costi di esercizio estremamente bassi durante tutta la sua affidabile e lunga vita di servizio. E racchiude nel suo chassis ergonomico e moderno tutte le collaudate caratteristiche tra le quali il sistema UV-PLUS (sistema di purificazione del gas sigillato che non richiede flussaggio di gas aggiuntivo), nessun raffreddamento esterno dell’interfaccia OPI, introduzione del campione semplificata e di facile accessibilità per il servizio e la manutenzione. Ed infine, SPECTRO ARCOS offre prestazioni analitiche superiori, tali da non dover aver bisogno di tecniche o strumentazione aggiuntiva.

La linea dei prodotti ICP OES/ICP AES di SPECTRO è completata dagli strumenti SPECTROBLUE e SPECTRO GENESIS

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Per ulteriori informazioni visita il sito spectro.com

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